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                    YZ-700MS 磁控濺射鍍膜機

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                    用途:主要用于各類(lèi)電學(xué)膜、金屬膜、SiO2膜等的鍍制
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                    產(chǎn)品詳情

                    700磁控副本.jpg


                    設備型號:YZ-700MS 磁控濺射鍍膜機

                    真空室內腔尺寸:φ700mm*H500mm

                    工轉機構:12轉裝置

                    靶源:矩靶/圓靶/柱靶

                    加熱方式:鎧裝加熱器

                    電源:DC電源/MF電源/RF電源(13.56MHZ

                    設備電源:三相   380V    50HZ

                    真空系統:雙極旋片泵+分子泵

                    設備冷卻水:0.2-0.4Mpa

                    空載極限真空:8.0x10-5Pa

                    設備壓縮空氣:0.4-0.8Mpa

                    空載恢復真空:3x10-3Pa10min

                    設備重量:約2.0T

                    磁控濺射鍍膜機的內腔尺寸、靶及電源配置等可根據客戶(hù)的工藝要求量身定制

                    YZ-700MS 磁控濺射鍍膜機
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                    真空室內腔尺寸:φ700mm*H500mm

                    工轉機構:12轉裝置

                    靶源:矩靶/圓靶/柱靶

                    加熱方式:鎧裝加熱器

                    電源:DC電源/MF電源/RF電源(13.56MHZ

                    設備電源:三相   380V    50HZ

                    真空系統:雙極旋片泵+分子泵

                    設備冷卻水:0.2-0.4Mpa

                    空載極限真空:8.0x10-5Pa

                    設備壓縮空氣:0.4-0.8Mpa

                    空載恢復真空:3x10-3Pa10min

                    設備重量:約2.0T

                    磁控濺射鍍膜機的內腔尺寸、靶及電源配置等可根據客戶(hù)的工藝要求量身定制

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