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                    YZ-700MS磁控濺射設備

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                    主要用于:主要用于各類電學膜、金屬膜(鍍金、鍍銀)、SiO2膜等的鍍制

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                    產品詳情


                    YZ-700MS 磁控濺射鍍膜機

                    真空室內腔尺寸:φ700mm*H500mm

                    真空系統:分子泵+雙極旋片泵

                    靶材系統:矩靶/圓靶/柱靶

                    濺射源:DC電源/MF電源/RF電源(13.56MHZ

                    空載極限真空:8.0x10-5Pa

                    空載恢復真空:2x10-3Pa 10min

                    設備電源:三相   380V    50HZ

                      設備重量:約3T

                    真空鍍膜機的內腔尺寸、泵組配置等可根據客戶的鍍膜工藝量身定制


                    YZ-700MS磁控濺射設備
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                    真空室內腔尺寸:φ700mm*H500mm

                    真空系統:分子泵+雙極旋片泵

                    靶材系統:矩靶/圓靶/柱靶

                    濺射源:DC電源/MF電源/RF電源(13.56MHZ

                    空載極限真空:8.0x10-5Pa

                    空載恢復真空:2x10-3Pa 10min

                    設備電源:三相   380V    50HZ

                      設備重量:約3T

                    真空鍍膜機的內腔尺寸、泵組配置等可根據客戶的鍍膜工藝量身定制


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