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                    YZ-1100EBI光學(xué)鍍膜設備

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                    主要用于:主要用于各類(lèi)AR膜、AF膜、冷光膜、各種濾光片、高反膜、ITO透明導電膜等各類(lèi)光學(xué)膜電學(xué)膜的鍍制
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                    產(chǎn)品詳情


                    YZ-1100EBI光學(xué)鍍膜設備.png


                    YZ1100EBI  光學(xué)真空鍍膜機

                    真空室內腔尺寸:φ1100mm*H1300mm

                    真空系統:分子泵+雙極旋片泵+羅茨泵

                    晶控:MXC-3B +六探頭

                    蒸發(fā)源:雙槍+固定阻蒸

                    空載極限真空:8.0x10-5Pa

                    空載恢復真空:2x10-3Pa 15min

                    加熱溫度:最高300

                    選件:RF離子源  /霍爾源、POLYCOLD

                    電源:三相   380V    50HZ

                    設備重量:約3T

                    真空鍍膜機的內腔尺寸、泵組配置等可根據客戶(hù)的鍍膜工藝量身定制


                    YZ-1100EBI光學(xué)鍍膜設備
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                    真空系統:分子泵+雙極旋片泵+羅茨泵

                    晶控:MXC-3B +六探頭

                    蒸發(fā)源:雙槍+固定阻蒸

                    空載極限真空:8.0x10-5Pa

                    空載恢復真空:2x10-3Pa 15min

                    加熱溫度:最高300

                    選件:RF離子源  /霍爾源、POLYCOLD

                    電源:三相   380V    50HZ

                    設備重量:約3T

                    真空鍍膜機的內腔尺寸、泵組配置等可根據客戶(hù)的鍍膜工藝量身定制


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